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作為先進的納米壓印設備，EVG7300紫外光納米壓印機憑借其300毫米晶圓處理能力、300納米級對準精度及模塊化設計，成為半導體、光學元件及生物醫療領域的關鍵制造工具。本文從設備結構、操作流程、關鍵參數調控及維護要點四方面，解析其高效使用的...
接觸式光刻機是一種用于信息科學與系統科學、能源科學技術、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，于2016年7月12日啟用。接觸式光刻機的使用原理：其實在我國對于接觸式光刻機，曝光時掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優點是可以使用價格較低的設備制造出較小的特征尺寸。我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經達到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為0.5gm左右。該設備的掩模版包括了要復制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一個由手動控制的臺子上，臺子...
電容位移傳感器的原理是利用力學變化使電容器中其中的一個參數發生變化的方法實現信號的變化的。該傳感器由目標和探針兩個傳感板組成電容器。當電容器之間的距離發生改變時，電容器的電容量就會發生改變，使用適當的控制器就會測出兩個傳感板距離的變化。測量原理特性：采用電容式測量原理，需要潔凈和干燥的環境，否則傳感器探頭和被測物體之間的物質介電常數的變化會影響測量結果。我們也推薦任何時候，都盡量縮短探頭到控制器之間的電纜長度。對于標準設備，配備前置放大器，電纜長度設定為1m。如果配備外置放大...
掩模對準曝光機的試驗方法：1、環境條件檢查：a、溫度、相對濕度檢查：試驗期間，用精度不低于1級的干濕球濕度計每4h測試一次環境的溫度，相對濕度。千濕球濕度計應置放在與工作臺高度一致，沒有氣流的地方；b、潔凈度檢查：試驗期間，每4h測試一次潔凈度。選用測試精度能滿足相應潔凈度等級的光學粒子計數器檢測有效工作區域的潔凈度；c、地面振動檢查：試驗期間，測試一次地面振動幅度，振動分析儀的拾振裝置應置放于工作臺機座附近。2、外觀檢查：a、用目視法進行外觀質量檢查；b、用手感方法檢查移動...
電容位移傳感器是一種非接觸電容式原理的精密測量儀器，具有一般非接觸式儀器所共有的無磨擦、無損磨特點外，還具有信噪比大，靈敏度高，零漂小，頻響寬，非線性小，精度穩定性好，抗電磁干擾能力強和使用操作方便等優點。在國內研究所，高等院校、工廠和軍工部門得到廣泛應用，成為科研、教學和生產中一種*的測試儀器。本產品基于平板電容原理。電容的兩極分別是傳感器和與之相對的被測物體。如果有穩定交流電通過傳感器，輸出交流電的電壓會與傳感器到被測物體之間的距離成正比關系，從而可以通過測量電壓的變化得...
光學膜厚儀是一種非接觸式測量儀器，一般會運用在生產廠商大量生產產品的過程，由于誤差經常會導致產品全部報廢，這時候就需要運用光學膜厚儀來介入到生產環境，避免這種情況的發生。光學膜厚儀的光學機械組件：1、光源：寬光譜光源；2、探測器：高靈敏度低噪音陣列式光譜探測器；3、控制箱：含電路板、控制單元、電源、光源；4、輸出設備：軟件界面支持輸出、輸入光譜數據庫。系統特點：1、嵌入式在線診斷方式；2、免費離線分析軟件；3、精細的歷史數據功能，幫助用戶有效地存儲，重現與繪制測試結果；4、主...